對(duì)尼康而言，幸好該廠(chǎng)平面顯示器用生產(chǎn)設(shè)備產(chǎn)品銷(xiāo)路仍佳，現(xiàn)在大陸正在大規(guī)模建造液晶面板工廠(chǎng)，接下來(lái)韓國(guó)、日本、與大陸又要投入OLED面板設(shè)廠(chǎng)，因此在2020年以前，尼康的半導(dǎo)體設(shè)備事業(yè)，可以靠面板廠(chǎng)需求，繼續(xù)維持。

　　半導(dǎo)體曝光裝置需要三種關(guān)鍵技術(shù)，他們決定著整個(gè)系統(tǒng)的性能。

　　第一，“投影透鏡的分辨率”。鏡頭的分辨能力越高，能通過(guò)光學(xué)系統(tǒng)傳輸?shù)碾娐穲D形就越復(fù)雜。為了提高鏡頭的性能，尼康嚴(yán)格管理從混合鏡頭原材料、分解、研磨、上涂層到組裝的整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程。

　　第二，“對(duì)準(zhǔn)精度”。制作一個(gè)半導(dǎo)體必須對(duì)光罩進(jìn)行幾十次替換，并在曝光過(guò)程中對(duì)電路圖形進(jìn)行反復(fù)刻錄。因此每次絲毫不差地對(duì)準(zhǔn)晶片和光罩至關(guān)重要。為此尼康使用多個(gè)傳感器以對(duì)光罩和晶片進(jìn)行精確定位。

　　第三，“產(chǎn)量”。大規(guī)模生產(chǎn)半導(dǎo)體時(shí)，這一技術(shù)十分重要。產(chǎn)量是產(chǎn)能的一個(gè)指標(biāo)，即一小時(shí)內(nèi)可曝光晶片的數(shù)量。為了在同一個(gè)晶片上實(shí)現(xiàn)最大數(shù)量的半導(dǎo)體曝光，尼康技術(shù)實(shí)現(xiàn)了晶片臺(tái)的高速移動(dòng)，并準(zhǔn)確停在位置，從而提高生產(chǎn)率。

　　通過(guò)將這三種技術(shù)結(jié)合，尼康半導(dǎo)體曝光裝置是迄今為止格外精密的設(shè)備。

　　而且，尼康的顯示器面板生產(chǎn)裝置，還有多透鏡系統(tǒng)，可透過(guò)同時(shí)控制多面透鏡的動(dòng)作，制造大型高精密度面板，在面板不斷大型化的現(xiàn)在，算是熱門(mén)商品。自誕生以來(lái)，半導(dǎo)體的體積極速小型化，同時(shí)可搭載的功能也越來(lái)越多。隨著半導(dǎo)體的不斷進(jìn)化，尼康亦持續(xù)開(kāi)發(fā)具有更高分辨率的曝光技術(shù)以滿(mǎn)足其日趨小型化趨勢(shì)。但是當(dāng)小型化發(fā)展到一定程度，如何使其更小型化，在技術(shù)上碰到了理論瓶頸。最終尼康在半導(dǎo)體曝光技術(shù)中采用了液浸式曝光技術(shù)，打破了僵局。